ज्ञान

निकल -कोबाल्ट{{1}वैनेडियम मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री हेक्सागोनल या गोलाकार प्लेटों के रूप में विशिष्ट अनुपात में निकल (नी), कोबाल्ट (सीओ), और वैनेडियम

निकेल -कोबाल्ट{{1}क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य, जो मुख्य रूप से निकल, कोबाल्ट और क्रोमियम से बने होते हैं, पिघलने और कास्टिंग जैसी प्रौद्योगिकियों के मा

निकल {{0}क्रोमियम {{1}एल्यूमीनियम मिश्र धातु कार्यात्मक लक्ष्य सामग्रियों का एक वर्ग है जिसमें उच्च {{2}तापमान स्थिरता, ऑक्सीकरण प्रतिरोध और उत्कृष्ट

कॉपर{{0}निकल-टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य तांबा, निकल और टाइटेनियम की नियंत्रित मिश्रधातु द्वारा बनाए जाते हैं। मिश्र धातु के परिणामस्वरूप अच्छी विद्युत

निकल {{0} बोरॉन मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य उच्च {{1} शुद्धता घनत्वीकरण प्रक्रिया के माध्यम से मुख्य रूप से निकल (नी) और बोरॉन (बी) से बने स्पटरिंग कोट

मोलिब्डेनम निकल मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य मोलिब्डेनम और निकल से बना एक मिश्र धातु लक्ष्य है, और इसमें कई सकारात्मक गुण हैं, और कई उद्योगों में स्पटरि

निकल {{0}सिलिकॉन मिश्र धातु (NiSi) लक्ष्य में निकल (Ni) और सिलिकॉन (Si) का संयोजन होता है जो आमतौर पर 99.9% (3N) या अधिक की शुद्धता में मौजूद होते हैं

निकल {{0} मैंगनीज मिश्र धातु लक्ष्य (आमतौर पर निकेल के साथ NiMn मिश्र धातु {{1} मैंगनीज अनुपात 50:50% होता है।%) कार्यात्मक पतली फिल्मों जैसे चुंबकीय

निकल - नाइओबियम मिश्र धातु लक्ष्य एक निश्चित अनुपात में मुख्य तत्वों के रूप में निकल (नी) और नाइओबियम (एनबी) को पिघलाकर बनाए गए स्पटरिंग लक्ष्य हैं। इ

टंगस्टन-टाइटेनियम मिश्र धातु संक्रमण धातुओं टंगस्टन और टाइटेनियम से मिश्रित एक सामग्री है। इसमें उच्च घनत्व और शुद्धता, संक्षारण के लिए बेहतर प्रतिरोध

नाइओबियम के अनुप्रयोग क्षेत्र

उच्च यांत्रिक शक्ति (17.5{2}}19.3 ग्राम/सेमी³), गलनांक (3422 ग्राम/सेमी³), और अति-उच्च घनत्व के साथ, टंगस्टन मिश्र धातु को उन्नत सैन्य, एयरोस्पेस और प