धातु सप्टरिंग लक्ष्य

  • 4एन एमजी मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य
    4N मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% से अधिक या उसके बराबर की शुद्धता वाली उच्च {{1}शुद्धता वाली धातु स्पटरिंग सामग्री हैं। उनमें महीन दाने और समान संरचना होती है, जो उन्हें सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल...
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  • 99.95% एचएफ हेफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य
    99.95% उच्च {{1}शुद्धता हेफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य, एयरोस्पेस {{2}ग्रेड एचएफ धातु लक्ष्य, कस्टम आकार, बंधी हुई तांबे की बैकिंग प्लेट, अर्धचालक पतली फिल्मों, ऑप्टिकल कोटिंग्स, सैन्य कोटिंग्स के लिए...
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  • ज़िरकोनियम ट्यूब लक्ष्य
    ज़िरकोनियम ट्यूब लक्ष्य पतली दीवार वाली, उच्च शुद्धता वाली ज़िरकोनियम ट्यूब हैं जो संक्षारण प्रतिरोधी और उच्च तापमान प्रतिरोधी हैं, जो स्पटरिंग के दौरान एक घनी, समान फिल्म का निर्माण करती हैं।...
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  • बेरिलियम स्पटरिंग लक्ष्य
    बेरिलियम एक स्टील-ग्रे धातु है जो कमरे के तापमान पर काफी भंगुर होती है, और इसके रासायनिक गुण कुछ हद तक एल्युमीनियम के समान होते हैं।
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  • क्रोमियम (Cr) स्पटरिंग लक्ष्य
    क्रोमियम स्पटरिंग टारगेट में धातु क्रोमियम (Cr) के समान गुण होते हैं, क्रोमियम एक रासायनिक तत्व है जिसका प्रतीक Cr और परमाणु संख्या 24 है, यह एक स्टील-ग्रे, चमकदार, कठोर और भंगुर संक्रमण धातु है।...
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  • रूथेनियम (Ru) स्पटरिंग लक्ष्य
    रूथेनियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता वाले रूथेनियम से बना एक ग्रे लक्ष्य है। रूथेनियम एक रासायनिक तत्व है जिसका प्रतीक Ru और परमाणु संख्या 44 है। यह आवर्त सारणी के प्लैटिनम समूह से संबंधित एक...
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  • स्कैंडियम (एससी) स्पटरिंग लक्ष्य
    स्कैंडियम एक रासायनिक तत्व है जिसका प्रतीक Sc और परमाणु संख्या 21 है, यह एक नरम, चांदी-सफेद संक्रमण धातु है जिसका गलनांक 1541 डिग्री और क्वथनांक 2831 डिग्री है। पानी में घुलना आसान है, गर्म पानी...
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  • सेलेनियम (Se) स्पटरिंग लक्ष्य
    सेलेनियम एक गैर-धात्विक रासायनिक तत्व है, जो आवर्त सारणी के समूह XVI का सदस्य है। रासायनिक गतिविधि और भौतिक गुणों में यह सल्फर और टेल्यूरियम जैसा दिखता है। सेलेनियम धातु अंधेरे की तुलना में प्रकाश...
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  • सिलिकॉन (Si) स्पटरिंग लक्ष्य
    पॉली-क्रिस्टलाइन सिलिकॉन, जिसे पॉली-सिलिकॉन या पॉली-Si भी कहा जाता है, सिलिकॉन का एक उच्च शुद्धता वाला पॉली-क्रिस्टलाइन रूप है, जिसका उपयोग सौर फोटोवोल्टिक और इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग द्वारा कच्चे...
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  • टिन (Sn) स्पटरिंग लक्ष्य
    टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य टाइटेनियम धातु से बना है। एक धातु के रूप में, टाइटेनियम को इसकी उच्च शक्ति-से-वजन अनुपात के लिए पहचाना जाता है। यह कम घनत्व वाली एक मजबूत धातु है जो काफी लचीली (विशेष रूप...
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  • टाइटेनियम (Ti) स्पटरिंग लक्ष्य
    टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य टाइटेनियम धातु से बना है। एक धातु के रूप में, टाइटेनियम को इसकी उच्च शक्ति-से-वजन अनुपात के लिए पहचाना जाता है। यह कम घनत्व वाली एक मजबूत धातु है जो काफी लचीली (विशेष रूप...
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  • टंगस्टन (W) स्पटरिंग लक्ष्य
    टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता वाले टंगस्टन धातु से बने होते हैं, जो आमतौर पर नाजुक और प्रक्रिया करने में कठिन होता है। यदि टंगस्टन को बहुत शुद्ध सामग्री में बनाया जाता है, तो यह अपनी कठोरता...
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