धातु सप्टरिंग लक्ष्य

• अनुकूलन योग्य 4एन कार्बन स्पटरिंग लक्ष्य

  हमारे उच्च शुद्धता वाले 4N कार्बन स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% शुद्ध कार्बन सामग्री से निर्मित होते हैं, जिनमें अशुद्धता का स्तर कम होता है और जो उन्हें अर्धचालक, ऑप्टिकल पतली फिल्मों और वैज्ञानिक...

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• कस्टम बोरोन स्पटरिंग लक्ष्य

  हम सेमीकंडक्टर और कोटिंग प्रक्रियाओं के लिए पूरी तरह से उपयुक्त उच्च शुद्धता, घने बोरान लक्ष्य प्रदान करते हैं। हम तकनीकी चित्रों के आधार पर कस्टम फैब्रिकेशन का समर्थन करते हैं, एक समान और स्थिर...

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• अनुकूलित 3N5 गोल टंगस्टन लक्ष्य

  हम 3N5 शुद्धता (99.95%) के साथ कस्टम निर्मित गोलाकार टंगस्टन लक्ष्य प्रदान करते हैं। पाउडर धातुकर्म का उपयोग करके निर्मित, उनमें एक समान सूक्ष्म संरचना, उच्च घनत्व होता है, और वे सरंध्रता और...

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• अनुकूलित उच्च शुद्धता एचएफ स्पटरिंग लक्ष्य

  हम 99.9% से अधिक शुद्धता के साथ कस्टम निर्मित उच्च {{1}शुद्धता वाले हेफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य प्रदान करते हैं, जिसमें समान घनत्व और सूक्ष्म सूक्ष्म संरचना शामिल है। सेमीकंडक्टर चिप्स, ऑप्टिकल...

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• अनुकूलित 3N5 हेफ़नियम रॉड

  3N5 उच्च{{2}शुद्धता हेफ़नियम छड़ें, 99.95% शुद्धता, परमाणु-ग्रेड गुणवत्ता! अति उच्च तापमान और तीव्र संक्षारण के प्रति प्रतिरोधी, परमाणु रिएक्टरों, एयरोस्पेस इंजनों और अर्धचालक लक्ष्यों के लिए पहली...

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• अनुकूलित 3एन टिन लक्ष्य

  उच्च -शुद्धता 3एन टिन स्पटरिंग लक्ष्य + कस्टम कॉपर बैकप्लेट स्पटरिंग दक्षता को दोगुना कर देता है! निर्बाध बंधन अलगाव को रोकता है, जिसके परिणामस्वरूप एक समान, अशुद्धता मुक्त फिल्में बनती हैं -...

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• अनुकूलन योग्य 3N5 आयताकार हेफ़नियम लक्ष्य

  3एन5 उच्च-शुद्धता हेफ़नियम लक्ष्य, 99.95% शुद्धता, माइक्रोमीटर के लिए सटीक कस्टम आयताकार आयाम! सेमीकंडक्टर कोटिंग और ऑप्टिकल कोटिंग के लिए पहली पसंद, बेहतर आसंजन के साथ घनी, कण मुक्त फिल्म का...

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• 4एन एमजी मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य

  4N मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% से अधिक या उसके बराबर की शुद्धता वाली उच्च {{1}शुद्धता वाली धातु स्पटरिंग सामग्री हैं। उनमें महीन दाने और समान संरचना होती है, जो उन्हें सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल...

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• 99.95% एचएफ हेफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य

  99.95% उच्च {{1}शुद्धता हेफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य, एयरोस्पेस {{2}ग्रेड एचएफ धातु लक्ष्य, कस्टम आकार, बंधी हुई तांबे की बैकिंग प्लेट, अर्धचालक पतली फिल्मों, ऑप्टिकल कोटिंग्स, सैन्य कोटिंग्स के लिए...

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• ज़िरकोनियम ट्यूब लक्ष्य

  ज़िरकोनियम ट्यूब लक्ष्य पतली दीवार वाली, उच्च शुद्धता वाली ज़िरकोनियम ट्यूब हैं जो संक्षारण प्रतिरोधी और उच्च तापमान प्रतिरोधी हैं, जो स्पटरिंग के दौरान एक घनी, समान फिल्म का निर्माण करती हैं।...

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• बेरिलियम स्पटरिंग लक्ष्य

  बेरिलियम एक स्टील-ग्रे धातु है जो कमरे के तापमान पर काफी भंगुर होती है, और इसके रासायनिक गुण कुछ हद तक एल्युमीनियम के समान होते हैं।

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• क्रोमियम (Cr) स्पटरिंग लक्ष्य

  क्रोमियम स्पटरिंग टारगेट में धातु क्रोमियम (Cr) के समान गुण होते हैं, क्रोमियम एक रासायनिक तत्व है जिसका प्रतीक Cr और परमाणु संख्या 24 है, यह एक स्टील-ग्रे, चमकदार, कठोर और भंगुर संक्रमण धातु है।...

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