पीवीडी कोटिंग सामग्री

• Cu बैकप्लेट के साथ 4N ZrO2 स्पटरिंग लक्ष्य

  बैकिंग प्लेटों के साथ हमारे ज़िरकोनियम डाइऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता वाले ज़िरकोनियम डाइऑक्साइड सामग्री का उपयोग करके निर्मित होते हैं, जो धातु बैकिंग प्लेट से सुरक्षित रूप से बंधे होते...

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• Cu बैकप्लेट के साथ ZrC स्पटरिंग लक्ष्य

  कॉपर बैकिंग प्लेटों के साथ हमारे ज़िरकोनियम कार्बाइड (ZrC) स्पटरिंग लक्ष्य में उच्च शुद्धता वाले ZrC लक्ष्य सामग्री और कॉपर बैकिंग के बीच एक मजबूत बंधन होता है। यह डिज़ाइन उत्कृष्ट तापीय और...

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• Ta 5at% डोप्ड ZrC स्पटरिंग लक्ष्य

  टैंटलम के 5 परमाणु प्रतिशत अनुपात के साथ ज़िरकोनियम कार्बाइड की सटीक डोपिंग लक्ष्य सामग्री के उच्च तापमान प्रतिरोध, थर्मल शॉक प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध को महत्वपूर्ण रूप से बढ़ाती है। उच्च...

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• 4एन आईजीजेडओ स्पटरिंग लक्ष्य

  हमारे 4N IGZO स्पटरिंग लक्ष्य अधिक स्थिर और कुशल स्पटरिंग प्रदर्शन प्रदान करते हैं। उच्च अंत प्रदर्शन और अर्धचालक अनुप्रयोगों के लिए विशिष्ट, वे बेहतर इलेक्ट्रॉन गतिशीलता और इमेजिंग स्पष्टता की...

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• Cu बैकप्लेट के साथ 4N HfO2 लक्ष्य

  कॉपर बैकिंग के साथ 4N HfO₂ स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% शुद्धता वाले हेफ़नियम ऑक्साइड सामग्री का उपयोग करता है। कॉपर बैकिंग के साथ एकीकृत, यह उत्कृष्ट तापीय चालकता प्रदान करता है और ऑप्टिकल कोटिंग,...

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• 4N HfO2 को 2% Ti लक्ष्य के साथ डोप किया गया

  2% Ti{1}}डॉप्ड HfO₂ स्पटरिंग लक्ष्य एक उच्च-शुद्धता वाले हेफ़नियम ऑक्साइड सब्सट्रेट का उपयोग करके निर्मित किया गया है, जिसे 2% टाइटेनियम के साथ सटीक रूप से डोप किया गया है। इसकी संरचनागत एकरूपता...

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• 4N HfO2 स्पटरिंग लक्ष्य

  4एन उच्च-शुद्धता हेफ़नियम डाइऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य (99.99% शुद्धता) - ऑप्टिकल कोटिंग्स, अर्धचालक और सटीक इलेक्ट्रॉनिक्स में अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त। उच्च घनत्व, समान संरचना और स्थिर स्पटरिंग...

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• अनुकूलन योग्य 4एन कार्बन स्पटरिंग लक्ष्य

  हमारे उच्च शुद्धता वाले 4N कार्बन स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% शुद्ध कार्बन सामग्री से निर्मित होते हैं, जिनमें अशुद्धता का स्तर कम होता है और जो उन्हें अर्धचालक, ऑप्टिकल पतली फिल्मों और वैज्ञानिक...

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• B4C स्पटरिंग लक्ष्य

  उच्च शुद्धता वाले बोरान कार्बाइड कच्चे माल का उपयोग करते हुए, इस उत्पाद में असाधारण कठोरता और मजबूत तापीय स्थिरता है, जो इसे सेमीकंडक्टर निर्माण, ऑप्टिकल कोटिंग्स और घिसाव प्रतिरोधी फिल्मों के...

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• कस्टम बोरोन स्पटरिंग लक्ष्य

  हम सेमीकंडक्टर और कोटिंग प्रक्रियाओं के लिए पूरी तरह से उपयुक्त उच्च शुद्धता, घने बोरान लक्ष्य प्रदान करते हैं। हम तकनीकी चित्रों के आधार पर कस्टम फैब्रिकेशन का समर्थन करते हैं, एक समान और स्थिर...

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• अनुकूलित 3N5 गोल टंगस्टन लक्ष्य

  हम 3N5 शुद्धता (99.95%) के साथ कस्टम निर्मित गोलाकार टंगस्टन लक्ष्य प्रदान करते हैं। पाउडर धातुकर्म का उपयोग करके निर्मित, उनमें एक समान सूक्ष्म संरचना, उच्च घनत्व होता है, और वे सरंध्रता और...

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• अनुकूलित उच्च शुद्धता एचएफ स्पटरिंग लक्ष्य

  हम 99.9% से अधिक शुद्धता के साथ कस्टम निर्मित उच्च {{1}शुद्धता वाले हेफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य प्रदान करते हैं, जिसमें समान घनत्व और सूक्ष्म सूक्ष्म संरचना शामिल है। सेमीकंडक्टर चिप्स, ऑप्टिकल...

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