पीवीडी कोटिंग सामग्री

• अनुकूलित 3N5 हेफ़नियम रॉड

  3N5 उच्च{{2}शुद्धता हेफ़नियम छड़ें, 99.95% शुद्धता, परमाणु-ग्रेड गुणवत्ता! अति उच्च तापमान और तीव्र संक्षारण के प्रति प्रतिरोधी, परमाणु रिएक्टरों, एयरोस्पेस इंजनों और अर्धचालक लक्ष्यों के लिए पहली...

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• कॉपर बैकप्लेट के साथ 4N कार्बन लक्ष्य

  कॉपर बैकप्लेट के साथ 4N उच्च -शुद्धता वाला कार्बन स्पटरिंग लक्ष्य, 99.99% शुद्धता, अधिक स्थिर स्पटरिंग सुनिश्चित करता है! कॉपर बैकप्लेट तेज़ तापीय चालकता और मजबूत ताप अपव्यय प्रदान करता है, लक्ष्य...

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• अनुकूलित 3एन टिन लक्ष्य

  उच्च -शुद्धता 3एन टिन स्पटरिंग लक्ष्य + कस्टम कॉपर बैकप्लेट स्पटरिंग दक्षता को दोगुना कर देता है! निर्बाध बंधन अलगाव को रोकता है, जिसके परिणामस्वरूप एक समान, अशुद्धता मुक्त फिल्में बनती हैं -...

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• अनुकूलित एचएफसी कण

  अनुकूलित एचएफसी कणों का विवरण एचएफसी कणों को आम तौर पर निष्क्रिय या कम करने वाले वातावरण में उच्च तापमान (1900-2300 डिग्री) पर कार्बन के साथ हेफ़नियम डाइऑक्साइड (एचएफओ₂) पर प्रतिक्रिया करके...

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• अनुकूलन योग्य 3N5 आयताकार हेफ़नियम लक्ष्य

  3एन5 उच्च-शुद्धता हेफ़नियम लक्ष्य, 99.95% शुद्धता, माइक्रोमीटर के लिए सटीक कस्टम आयताकार आयाम! सेमीकंडक्टर कोटिंग और ऑप्टिकल कोटिंग के लिए पहली पसंद, बेहतर आसंजन के साथ घनी, कण मुक्त फिल्म का...

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• 3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 लक्ष्य

  3N Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 लक्ष्य का वर्णन इसका मूल रासायनिक सूत्र Pb1.1(Zr0.51Ti0.48Mn0.01)O3 है। क्लासिक पेरोव्स्काइट संरचना PZT (Pb(Zr, Ti)O3) के आधार पर, सटीक नियंत्रण...

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• 4एन एमजी मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य

  4N मैग्नीशियम स्पटरिंग लक्ष्य 99.99% से अधिक या उसके बराबर की शुद्धता वाली उच्च {{1}शुद्धता वाली धातु स्पटरिंग सामग्री हैं। उनमें महीन दाने और समान संरचना होती है, जो उन्हें सेमीकंडक्टर, ऑप्टिकल...

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• 99.95% एचएफ हेफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य

  99.95% उच्च {{1}शुद्धता हेफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य, एयरोस्पेस {{2}ग्रेड एचएफ धातु लक्ष्य, कस्टम आकार, बंधी हुई तांबे की बैकिंग प्लेट, अर्धचालक पतली फिल्मों, ऑप्टिकल कोटिंग्स, सैन्य कोटिंग्स के लिए...

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• ज़िरकोनियम ट्यूब लक्ष्य

  ज़िरकोनियम ट्यूब लक्ष्य पतली दीवार वाली, उच्च शुद्धता वाली ज़िरकोनियम ट्यूब हैं जो संक्षारण प्रतिरोधी और उच्च तापमान प्रतिरोधी हैं, जो स्पटरिंग के दौरान एक घनी, समान फिल्म का निर्माण करती हैं।...

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• ज़्रती स्पटरिंग टारगेट

  ZRTI स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक सूचना उद्योग, ग्लास कोटिंग क्षेत्र, उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोधी सामग्री, उच्च अंत सजावटी उत्पाद, टच स्क्रीन उद्योग और फोटोवोल्टिक उद्योग, आदि में...

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• ZRTI स्पटर लक्ष्य

  ZRTI स्पटर लक्ष्य आमतौर पर इस्तेमाल किए जाने वाले धातु स्पटरिंग लक्ष्यों में से एक हैं, जिन्हें प्लानर लक्ष्यों, छिड़के हुए लक्ष्यों और घूर्णन लक्ष्यों, आदि में विभाजित किया जा सकता है, और आयन...

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• ज़िरकोनियम टाइटेनियम ज़्रटी स्पटरिंग टारगेट

  Zirconium टाइटेनियम ZRTI स्पटरिंग लक्ष्य व्यापक रूप से बहु-आर्क आयन वैक्यूम कोटिंग या मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग पीवीडी में उद्योग में उपयोग किया जाता है, और आवश्यकताओं के अनुसार पहनने-प्रतिरोधी...

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