पीवीडी कोटिंग सामग्री

• नियोबियम ऑक्साइड (Nb2O5) स्पटरिंग लक्ष्य

  हमारे नियोबियम ऑक्साइड लक्ष्य उन्नत वैक्यूम हॉट प्रेसिंग, हॉट आइसोस्टेटिक प्रेसिंग, कोल्ड प्रेसिंग सिंटरिंग और थर्मल स्प्रेइंग प्रक्रियाओं का उपयोग करके उत्पादित किए जाते हैं। हमारे उत्पादों में...

  अधिक
• निकेल ऑक्साइड (NiO) स्पटरिंग लक्ष्य

  NiO लक्ष्य एक ऐसी सामग्री है जिसका उपयोग पतली फिल्म वृद्धि प्रौद्योगिकियों जैसे कि भौतिक वाष्प जमाव (PVD) और रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) में किया जाता है। ये प्रौद्योगिकियां अर्धचालक उपकरणों,...

  अधिक
• सिलिकॉन कार्बाइड (SiC) स्पटरिंग लक्ष्य

  यह खंड सिलिकॉन कार्बाइड लक्ष्यों की बुनियादी विशेषताओं पर विस्तार से चर्चा करता है, इसके रासायनिक और भौतिक गुणों, तैयारी विधियों से लेकर गुणवत्ता मूल्यांकन संकेतकों के व्यापक विश्लेषण तक, जिसका...

  अधिक
• सिलिकॉन मोनोऑक्साइड (SiO) स्पटरिंग लक्ष्य

  सिलिकॉन मोनोऑक्साइड एक अकार्बनिक यौगिक है जिसका रासायनिक सूत्र SiO है। यह कमरे के तापमान और दबाव पर काले भूरे से लेकर लोएस रंग का अनाकार पाउडर होता है।

  अधिक
• एल्युमिनियम ऑक्साइड (Al2O3) स्पटरिंग लक्ष्य

  एल्युमिनियम ऑक्साइड लक्ष्य सामग्री, यह उच्च शुद्धता, उच्च घनत्व वाली सिरेमिक सामग्री, न केवल उत्कृष्ट स्थिरता रखती है, बल्कि अत्यधिक तापीय वातावरण का भी सामना कर सकती है। यह माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स,...

  अधिक
• एल्युमिनियम नाइट्राइड (AlN) स्पटरिंग लक्ष्य

  एल्यूमीनियम नाइट्राइड स्पटरिंग लक्ष्य को उच्च शुद्धता एल्यूमीनियम नाइट्राइड, पतली फिल्म जमाव सामग्री, अर्धचालक उद्योग लक्ष्य, AlN स्पटर लक्ष्य, सिरेमिक स्पटरिंग सामग्री, एल्यूमीनियम नाइट्राइड...

  अधिक
• बोरोन (बी) स्पटरिंग लक्ष्य

  बोरॉन स्पटरिंग लक्ष्य में बोरॉन के समान ही गुण होते हैं। बोरॉन एक रासायनिक तत्व है जिसकी उत्पत्ति अरबी 'बुराक' से हुई है, जो बोरेक्स का नाम था। "बी" बोरॉन का विहित रासायनिक प्रतीक है। बोरॉन की...

  अधिक
• एल्युमिनियम जिंक ऑक्साइड (AZO) स्पटरिंग लक्ष्य

  AZO टारगेट, पूरा नाम जिंक ऑक्साइड एल्युमिनियम टारगेट, एक विशेष डोप्ड सेमीकंडक्टर सामग्री है। विशेष रूप से, यह जिंक ऑक्साइड (ZnO) और एल्युमिनियम (Al) से बना एक मिश्रित पदार्थ है, जिसे आमतौर पर...

  अधिक
• बेरियम टाइटेनेट (BaTiO3) स्पटरिंग लक्ष्य

  बेरियम टाइटेनेट एक क्रिस्टलीय ठोस पदार्थ है जिसका उपयोग ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक अनुप्रयोगों में और कैपेसिटर में डाइइलेक्ट्रिक सिरेमिक के रूप में किया जाता है, जिसका डाइइलेक्ट्रिक स्थिरांक मान 7,000...

  अधिक
• बोरोन नाइट्राइड (बीएन) स्पटरिंग लक्ष्य

  बोरॉन नाइट्राइड (BN) नाइट्रोजन परमाणुओं और बोरॉन परमाणुओं से बना एक क्रिस्टल है। यह आमतौर पर काला, भूरा या गहरा लाल होता है। इसमें स्फेलेराइट संरचना, अच्छी तापीय चालकता होती है, और इसकी कठोरता...

  अधिक
• बोरोन कार्बाइड (B4C) स्पटरिंग लक्ष्य

  बोरॉन कार्बाइड: इसकी खोज 19वीं शताब्दी में मेटल बोराइड अनुसंधान के उपोत्पाद के रूप में हुई थी और 1830 के दशक तक इसका वैज्ञानिक अध्ययन नहीं किया गया था। यह बोरॉन नाइट्राइड, हीरा, फुलरीन यौगिक और...

  अधिक
• सेरियम ऑक्साइड (CeO2) स्पटरिंग लक्ष्य

  सेरियम ऑक्साइड एक अकार्बनिक पदार्थ है जिसका रासायनिक सूत्र CeO2 है, यह हल्के पीले या पीले-भूरे रंग का पाउडर है। घनत्व 7.13g/cm3, गलनांक 2397 डिग्री, पानी और क्षार में अघुलनशील, अम्ल में थोड़ा...

  अधिक