पीवीडी कोटिंग सामग्री

• लिथियम मैंगनेट (LiMn2O4) स्पटरिंग लक्ष्य

  लिथियम मैंगनेट स्पटरिंग लक्ष्य एक काला स्पटरिंग पदार्थ है जिसमें Li, Mn और O तत्व होते हैं। यह लिथियम-आयन बैटरी के लिए एक सुचालक सिरेमिक ठोस इलेक्ट्रोलाइट पदार्थ है।

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• लिथियम कोबाल्टेट (LiCoO2) स्पटरिंग लक्ष्य

  स्पटरिंग एक सिद्ध तकनीक है जो विभिन्न प्रकार की सामग्रियों से पतली फिल्मों को विभिन्न आकार और आकृति के सब्सट्रेट पर जमा करने में सक्षम है।

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• यिट्रियम ऑक्साइड (Y2O3) स्पटरिंग लक्ष्य

  शुद्धता: 99.99%;
  उत्पादन विधि: गर्म प्रेस सिंटरिंग;
  उपलब्ध आयाम:
  

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• ज़िरकोनियम ऑक्साइड (ZrO2) स्पटरिंग लक्ष्य

  हम सिरेमिक स्पटरिंग टारगेट और कम्पाउंड टारगेट की पूरी रेंज का उत्पादन और आपूर्ति करते हैं, जिसमें ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट, कार्बाइड स्पटरिंग टारगेट, फ्लोराइड स्पटरिंग टारगेट, सल्फाइड स्पटरिंग...

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• लिथियम नियोबेट (LiNbO3) स्पटरिंग लक्ष्य

  हमारा कारखाना सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्यों और यौगिक लक्ष्यों की पूरी श्रृंखला का उत्पादन और आपूर्ति कर सकता है, जिसमें ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य, कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य, फ्लोराइड स्पटरिंग लक्ष्य,...

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• जिंक ऑक्साइड/एल्यूमीनियम ऑक्साइड (AZO-ZnO/Al2O3) स्पटरिंग...

  हमारा कारखाना अर्धचालक, रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्रदर्शन और ऑप्टिकल अनुप्रयोगों में उपयोग के लिए उच्चतम संभव घनत्व और सबसे छोटे संभव औसत अनाज आकार के साथ उच्च...

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• टंगस्टन टाइटेनियम (WTi) स्पटरिंग लक्ष्य

  टंगस्टन टाइटेनियम स्पटरिंग टारगेट पाउडर धातुकर्म प्रौद्योगिकी द्वारा उत्पादित किए जाते हैं, जिनका व्यापक रूप से अर्धचालक और पतली फिल्म सौर कोशिकाओं के लिए उपयोग किया जाता है।

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• एल्युमिनियम नियोडिमियम (AlNd) स्पटरिंग लक्ष्य

  एल्युमिनियम नियोडिमियम मिश्र धातु एक आम तौर पर इस्तेमाल किया जाने वाला मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग लक्ष्य है। एल्युमिनियम का गलनांक 660 डिग्री, घनत्व 2.7 और ऊष्मीय चालकता 0.53 है, जबकि नियोडिमियम का...

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• एल्युमिनियम कॉपर (AlCu) स्पटरिंग लक्ष्य

  एल्युमिनियम कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य अपनी उच्च कठोरता, तन्य शक्ति और हल्के वजन के कारण कई उद्योगों और अनुप्रयोगों के लिए एकदम सही है। इसमें आमतौर पर 1-3% कॉपर सामग्री होती है और इसमें एल्युमिनियम के...

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• एल्युमिनियम स्कैंडियम (AlSc) स्पटरिंग लक्ष्य

  स्कैंडियम का एल्युमिनियम पर अच्छा फैलाव सुदृढ़ीकरण प्रभाव होता है। यह गर्म काम या एनीलिंग अवस्था के दौरान एक स्थिर गैर-पुनःक्रिस्टलीकरण संरचना है। कुछ मिश्र धातुएं ठंडी रोल्ड प्लेट होती हैं,...

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• एल्युमिनियम सिलिकॉन (AlSi) स्पटरिंग लक्ष्य

  लक्ष्य एल्युमिनियम और सिलिकॉन पाउडर को मिलाकर तैयार किए जाते हैं और फिर उन्हें पूर्ण घनत्व तक संघनित किया जाता है। इस तरह संघनित सामग्रियों को वैकल्पिक रूप से सिंटर किया जाता है और फिर उन्हें...

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• एल्युमिनियम क्रोमियम (AlCr) स्पटरिंग लक्ष्य

  हमारे एल्यूमीनियम-क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य उन्नत गर्म आइसोस्टैटिक दबाने की प्रक्रिया को अपनाते हैं। उत्पादों में आयताकार लक्ष्य, चाप लक्ष्य और बड़े पहलू अनुपात अभिन्न रूप से गठित ट्यूब लक्ष्य...

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