ज्ञान

Nickel-manganese-aluminum-silicon alloy target materials consist of melting and processing Ni, Mn, Al, and Si, which are nickel, manganese, aluminum,

निकल {{0}क्रोमियम {{1}एल्यूमीनियम {{2}लौह मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से निकल {{3}आधारित मल्टी {{4}घटक मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य होते हैं जि

निकल {{0}कोबाल्ट{{1}लौह मिश्रधातु के स्पटरिंग लक्ष्य में निकल (Ni), कोबाल्ट (Co), और लौह (Fe) के विशिष्ट अनुपात होते हैं। इन मिश्र धातुओं को समतल या घ

निकल -कोबाल्ट{{1}वैनेडियम मिश्र धातु लक्ष्य सामग्री हेक्सागोनल या गोलाकार प्लेटों के रूप में विशिष्ट अनुपात में निकल (नी), कोबाल्ट (सीओ), और वैनेडियम

निकेल -कोबाल्ट{{1}क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य, जो मुख्य रूप से निकल, कोबाल्ट और क्रोमियम से बने होते हैं, पिघलने और कास्टिंग जैसी प्रौद्योगिकियों के मा

निकल {{0}क्रोमियम {{1}एल्यूमीनियम मिश्र धातु कार्यात्मक लक्ष्य सामग्रियों का एक वर्ग है जिसमें उच्च {{2}तापमान स्थिरता, ऑक्सीकरण प्रतिरोध और उत्कृष्ट

कॉपर{{0}निकल-टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य तांबा, निकल और टाइटेनियम की नियंत्रित मिश्रधातु द्वारा बनाए जाते हैं। मिश्र धातु के परिणामस्वरूप अच्छी विद्युत

निकल {{0} बोरॉन मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य उच्च {{1} शुद्धता घनत्वीकरण प्रक्रिया के माध्यम से मुख्य रूप से निकल (नी) और बोरॉन (बी) से बने स्पटरिंग कोट

मोलिब्डेनम निकल मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य मोलिब्डेनम और निकल से बना एक मिश्र धातु लक्ष्य है, और इसमें कई सकारात्मक गुण हैं, और कई उद्योगों में स्पटरि

निकल {{0}सिलिकॉन मिश्र धातु (NiSi) लक्ष्य में निकल (Ni) और सिलिकॉन (Si) का संयोजन होता है जो आमतौर पर 99.9% (3N) या अधिक की शुद्धता में मौजूद होते हैं

निकल {{0} मैंगनीज मिश्र धातु लक्ष्य (आमतौर पर निकेल के साथ NiMn मिश्र धातु {{1} मैंगनीज अनुपात 50:50% होता है।%) कार्यात्मक पतली फिल्मों जैसे चुंबकीय

निकल - नाइओबियम मिश्र धातु लक्ष्य एक निश्चित अनुपात में मुख्य तत्वों के रूप में निकल (नी) और नाइओबियम (एनबी) को पिघलाकर बनाए गए स्पटरिंग लक्ष्य हैं। इ