पीवीडी कोटिंग सामग्री

• क्रोमियम (Cr) कणिकाएँ

  क्रोमियम धातु चांदी-सफेद धातु है, अत्यंत कठोर और संक्षारण प्रतिरोधी है। घनत्व 7.20 ग्राम/सेमी³। गलनांक 1857±20ºC, क्वथनांक 2672ºC. क्रोमियम मिश्र धातु में उच्च शक्ति और संक्षारण प्रतिरोध होता है,...

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• तांबा (Cu) छर्रे

  कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य में धातु कॉपर (Cu) के समान गुण होते हैं। कॉपर एक रासायनिक तत्व है जिसका प्रतीक Cu (लैटिन: cuprum से) और परमाणु संख्या 29 है। यह एक नरम, लचीला और तन्य धातु है जिसमें बहुत अधिक...

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• जर्मेनियम (Ge) कणिकाएँ

  जर्मेनियम (Ge) दाना उच्च शुद्धता वाले जर्मेनियम पिंड से बना एक अनियमित आकार है। विशेष कठोर मिश्र धातु उपकरणों का उपयोग करके, जर्मेनियम पिंड को Fe, Ni और Cr जैसी अशुद्धियों के संयोजन के बिना छोटे...

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• हैफ़नियम (Hf) छर्रे

  हाफ़नियम, प्रतीक Hf, परमाणु संख्या 72, परमाणु भार 178.49, एक शानदार, चमकदार चांदी-ग्रे संक्रमण धातु है। 2227 ºC के उल्लेखनीय गलनांक और 4602 ºC तक के क्वथनांक के साथ, इसका घनत्व 13.31 ग्राम/सेमी³...

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• लौह (Fe) गोलियां

  लोहा एक चमकदार, चांदी जैसी सफ़ेद धातु है जो अपनी कठोरता और तन्यता के लिए जानी जाती है। इसका गलनांक 1535 डिग्री और क्वथनांक 3000 डिग्री है। लगभग 0.46 * 1000J/KG * डिग्री की विशिष्ट ऊष्मा क्षमता के...

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• मैग्नीशियम (Mg) छर्रे

  मैग्नीशियम (Mg) एक ग्रे-सफ़ेद, क्षारीय मृदा धातु है। इसका उपयोग विमान, इंजन आवरण, लैपटॉप, सेल फ़ोन और कैमरों के उत्पादन में व्यापक रूप से किया जाता है, क्योंकि इसका वजन हल्का, कम घनत्व, अच्छे...

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• मोलिब्डेनम (Mo) छर्रे

  मोलिब्डेनम, एक चांदी-सफेद और असाधारण रूप से कठोर संक्रमण धातु है, जो अपने उल्लेखनीय स्थायित्व, शक्ति और संक्षारण और अत्यधिक तापमान दोनों के प्रतिरोध के लिए जाना जाता है। टंगस्टन की तुलना में नरम...

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• नियोबियम (एनबी) छर्रे

  नियोबियम एक रासायनिक तत्व है। रासायनिक प्रतीक Nb, परमाणु संख्या 41, परमाणु भार 92.90638, आवर्त प्रणाली के समूह VB से संबंधित है। एक धात्विक तत्व। नियोबियम गैसों को अवशोषित करता है, इसे डीगैसर के...

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• निकेल (Ni) छर्रे

  निकल धातु फिल्म में अच्छी चालकता, संक्षारण प्रतिरोध और प्लास्टिसिटी होती है, और इसका व्यापक रूप से अर्धचालक और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में उपयोग किया जाता है।

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• टिन ऑक्साइड (SnO2) स्पटरिंग लक्ष्य

  टिन ऑक्साइड लक्ष्य (SnO2) एक महत्वपूर्ण अकार्बनिक गैर-धातु सामग्री है। अपने अद्वितीय भौतिक और रासायनिक गुणों के कारण, यह कई उच्च तकनीक क्षेत्रों में महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है। इसकी मुख्य...

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• टैंटालम ऑक्साइड (Ta2O5) स्पटरिंग लक्ष्य

  टैंटलम ऑक्साइड स्पटरिंग टारगेट का उपयोग सेमीकंडक्टर, रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी), भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) डिस्प्ले और ऑप्टिकल अनुप्रयोगों में किया जा सकता है। हम प्रतिस्पर्धी कीमतों पर उच्च...

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• टाइटेनियम ऑक्साइड (TiO2) स्पटरिंग लक्ष्य

  टाइटेनियम डाइऑक्साइड (TiO2) सबसे व्यापक रूप से इस्तेमाल किया जाने वाला सफेद रंगद्रव्य है, उदाहरण के लिए पेंट में। इसकी चमक बहुत अधिक है और इसका अपवर्तनांक बहुत अधिक है (रूटाइल के लिए 2.609)।

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