निकल - नाइओबियम मिश्र धातु लक्ष्य एक निश्चित अनुपात में मुख्य तत्वों के रूप में निकल (नी) और नाइओबियम (एनबी) को पिघलाकर बनाए गए स्पटरिंग लक्ष्य हैं। इनका उपयोग मुख्य रूप से विभिन्न सब्सट्रेट्स पर कार्यात्मक पतली फिल्में तैयार करने के लिए भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्रक्रियाओं, विशेष रूप से मैग्नेट्रोन स्पटरिंग में किया जाता है।
निकेल के लिए तैयारी विधि-नाइओबियम मिश्र धातु लक्ष्य
1. कच्चे माल की तैयारी: कच्चे माल के रूप में उच्च शुद्धता वाले निकल और नाइओबियम पाउडर का चयन करें, यह सुनिश्चित करते हुए कि उनकी शुद्धता लक्ष्य तैयारी आवश्यकताओं को पूरा करती है। उदाहरण के लिए, निकल और नाइओबियम पाउडर की शुद्धता 99.9% से अधिक तक पहुंच सकती है।
2. पाउडर मिश्रण: डिज़ाइन किए गए मिश्र धातु संरचना अनुपात के अनुसार निकल और नाइओबियम पाउडर का सटीक वजन करें और उन्हें एक मिश्रण उपकरण में अच्छी तरह मिलाएं। एकसमान मिश्रण सुनिश्चित करने के लिए, उचित मिलिंग समय और बॉल से {{3}सामग्री अनुपात को नियंत्रित करते हुए, बॉल मिलिंग का उपयोग किया जा सकता है।
3. दबाना: समान रूप से मिश्रित पाउडर को एक सांचे में रखा जाता है और एक निश्चित घनत्व और ताकत के साथ लक्ष्य खाली बनाने के लिए कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग (सीआईपी) या हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग (एचआईपी) का उपयोग करके दबाया जाता है। कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग (सीआईपी) अपेक्षाकृत कम दबाव पर प्रारंभिक पाउडर संघनन की अनुमति देता है, जबकि एचआईपी उच्च तापमान और उच्च दबाव पर लक्ष्य रिक्त के घनत्व को और बढ़ा देता है।
4. सिंटरिंग: पाउडर कणों के बीच छिद्रों को खत्म करने और लक्ष्य के घनत्व और प्रदर्शन में सुधार करने के लिए दबाए गए लक्ष्य रिक्त स्थान को वैक्यूम भट्टी में सिंटर किया जाता है। सिंटरिंग तापमान और समय प्रमुख पैरामीटर हैं। सिंटरिंग तापमान आम तौर पर 1000 डिग्री से 1500 डिग्री तक होता है, और सिंटरिंग का समय कुछ घंटों से लेकर कई दर्जन घंटों तक होता है। अनुकूलन लक्ष्य की संरचना और आकार पर निर्भर करता है।
5. मशीनिंग: सिंटरिंग के बाद, लक्ष्य को वांछित आयाम और सतह फिनिश प्राप्त करने के लिए मशीनिंग की आवश्यकता होती है, जैसे मोड़ना और पीसना।
निकेल के अनुप्रयोग-निबियम मिश्र धातु लक्ष्य
सेमीकंडक्टर: इनका उपयोग बाधा परतें, इलेक्ट्रोड और इंटरकनेक्ट बनाने के लिए स्पटरिंग के लिए किया जा सकता है। निकेल-निबियम मिश्र धातु की पतली फिल्में धातु के परमाणुओं के प्रसार को प्रभावी ढंग से रोकती हैं, अर्धचालक उपकरणों के प्रदर्शन और विश्वसनीयता में सुधार करती हैं, और एकीकृत सर्किट निर्माण के लिए महत्वपूर्ण हैं।
डिस्प्ले तकनीक: ओएलईडी और लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले जैसे फ्लैट पैनल डिस्प्ले में, निकेल {{1} निबियम मिश्र धातु लक्ष्य का उपयोग इलेक्ट्रोड या प्रतिबिंबित परतें बनाने के लिए किया जा सकता है, जो स्क्रीन चमक, प्रतिक्रिया गति और रंग स्थिरता में सुधार करने में मदद करता है।
ऑप्टिकल कोटिंग: इनका उपयोग विभिन्न ऑप्टिकल प्रदर्शन आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए सटीक ऑप्टिकल उपकरणों, लेजर सिस्टम और ऑप्टिकल उपकरणों में अनुप्रयोगों के लिए विभिन्न ऑप्टिकल कोटिंग्स, जैसे इन्फ्रारेड रिफ्लेक्टिव फिल्म और लेजर क्षति प्रतिरोधी फिल्में बनाने के लिए किया जा सकता है।
टूट-फूट प्रतिरोधी और संक्षारण प्रतिरोधी कोटिंग: उनके उत्कृष्ट घिसाव और संक्षारण प्रतिरोध के कारण, निकेल {{2} निबियम मिश्र धातु का उपयोग यांत्रिक भागों और उपकरण सतहों पर टूट-फूट और संक्षारण प्रतिरोधी पतली फिल्में बनाने के लिए किया जा सकता है, जिससे घटक जीवन और प्रदर्शन में वृद्धि होती है। एयरोस्पेस, ऑटोमोटिव विनिर्माण और मशीनिंग जैसे उद्योगों में उनके पास व्यापक अनुप्रयोग संभावनाएं हैं।
