उत्पाद विवरण
कोबाल्ट (Co) स्पटरिंग लक्ष्य में धातु कोबाल्ट के समान गुण होते हैं, निकेल की तरह, कोबाल्ट पृथ्वी की पपड़ी में केवल रासायनिक रूप से संयुक्त रूप में पाया जाता है, प्राकृतिक उल्कापिंड लोहे के मिश्रधातुओं में पाए जाने वाले छोटे जमावों को छोड़कर। रिडक्टिव स्मेल्टिंग द्वारा उत्पादित मुक्त तत्व एक कठोर, चमकदार, चांदी-ग्रे धातु है। कोबाल्ट एक फेरोमैग्नेटिक धातु है जिसका विशिष्ट गुरुत्व 8.9 है। क्यूरी तापमान 1,115 डिग्री (2,039 डिग्री फ़ारेनहाइट) है और चुंबकीय क्षण 1.6-1.7 बोर मैग्नेटन प्रति परमाणु है। कोबाल्ट की सापेक्ष पारगम्यता लोहे की तुलना में दो-तिहाई है।
99.9-99.999% की शुद्धता वाले कोबाल्ट का व्यापक रूप से चुंबकीय सामग्री और सुपरलॉय के निर्माण में उपयोग किया गया है, और 99.999% या उससे अधिक शुद्धता वाले कोबाल्ट स्पटरिंग लक्ष्यों को उन्नत इलेक्ट्रॉनिक घटकों के लिए लागू किया जाता है। Xinkang द्वारा निर्मित उच्च शुद्धता वाले कोबाल्ट स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग मुख्य रूप से चुंबकीय रिकॉर्डिंग, चुंबकीय सेंसर और में किया जाता है।
फोटोइलेक्ट्रिक फ़ील्ड्स.
कोबाल्ट (Co) विनिर्देश
|
सामग्री के प्रकार |
कोबाल्ट |
|
प्रतीक |
सह |
|
परमाण्विक भार |
58.933195 |
|
परमाणु संख्या |
27 |
|
रंग/रूप |
चमकदार, धातुमय, धूसर रंग |
|
ऊष्मीय चालकता |
100 W/m.K |
|
गलनांक (डिग्री) |
1,495 |
|
ताप विस्तार प्रसार गुणांक |
13.0 x 10-6/K |
|
सैद्धांतिक घनत्व (g/cc) |
8.9 |
|
लौह-चुंबकीय |
चुंबकीय सामग्री |
|
Z अनुपात |
0.343 |
|
धूम |
डीसी |
|
अधिकतम शक्ति घनत्व |
80* |
|
टिप्पणियाँ |
W/Ta/Mo वाले मिश्रधातु. |
कोबाल्ट स्पटरिंग लक्ष्य तैयार करने की प्रक्रिया
सामग्री तैयारी - वैक्यूम इंडक्शन मेल्टिंग - रासायनिक विश्लेषण - फोर्जिंग-रोलिंग - एनीलिंग - मेटलोग्राफिक निरीक्षण - मशीनिंग - आयामी निरीक्षण - सफाई - अंतिम निरीक्षण - पैकेजिंग।
संबंधित स्पटरिंग सामग्री
CoCr स्पटरिंग लक्ष्य
CoCrNi स्पटरिंग लक्ष्य
CoFeB स्पटरिंग लक्ष्य
CoCu स्पटरिंग लक्ष्य
CoFe स्पटरिंग लक्ष्य
लोकप्रिय टैग: कोबाल्ट (सह) स्पटरिंग लक्ष्य, चीन कोबाल्ट (सह) स्पटरिंग लक्ष्य आपूर्तिकर्ताओं, कारखाने
