कॉपर (Cu) स्पटरिंग लक्ष्य

तांबे के स्पटरिंग लक्ष्य में धातु तांबे (Cu) के समान गुण होते हैं। तांबा एक रासायनिक तत्व है जिसका प्रतीक Cu (लैटिन: cuprum से) और परमाणु संख्या 29 है। यह बहुत उच्च तापीय और विद्युत चालकता के साथ एक नरम, आघातवर्धनीय और तन्य धातु है।

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उत्पाद विवरण

कॉपर स्पटरिंग टारगेट में धातु कॉपर (Cu) के समान गुण होते हैं। कॉपर एक रासायनिक तत्व है जिसका प्रतीक Cu (लैटिन: cuprum से) और परमाणु संख्या 29 है। यह एक नरम, लचीला और तन्य धातु है जिसमें बहुत अधिक तापीय और विद्युत चालकता होती है। एक ताजा उजागर शुद्ध तांबा गुलाबी-नारंगी रंग का होता है। तांबे का उपयोग गर्मी और बिजली के कंडक्टर के रूप में, एक निर्माण सामग्री के रूप में और विभिन्न धातु मिश्र धातुओं के घटक के रूप में किया जाता है। कॉपर स्पटरिंग टारगेट पिघलने वाली तकनीक द्वारा निर्मित होता है, यह अर्धचालक, सजावटी कोटिंग और उन्नत पैकिंग क्षेत्र के लिए व्यापक रूप से लागू होता है।

हम 99.9%~99.9999% की शुद्धता के साथ कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य का उत्पादन कर सकते हैं, और सबसे कम ऑक्सीजन सामग्री अर्धचालक वायरिंग आदि हो सकती है। हम न केवल प्लानर कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य (अधिकतम G8.5 पीढ़ी) का उत्पादन करते हैं, बल्कि कॉपर रोटरी लक्ष्य भी बनाते हैं, जो मुख्य रूप से टच स्क्रीन उद्योग के लिए उपयोग किए जाते हैं। चूंकि अनाज को तोड़ना मुश्किल है, इसलिए हम केवल बहुत बड़े विरूपण के साथ प्रक्रिया कर सकते हैं और एक ठीक और समान माइक्रोस्ट्रक्चर प्राप्त करने के लिए जुड़वाँ के विकास को नियंत्रित कर सकते हैं, जो स्पटरिंग के दौरान कणों के गठन की कम क्षरण दर और संवेदनशीलता सुनिश्चित करता है।

हमारे तांबे के स्पटरिंग लक्ष्य के दो माइक्रोग्राफ निम्नलिखित हैं, औसत अनाज का आकार＜50μm

तांबा (Cu) विनिर्देश

सामग्री के प्रकार	ताँबा
प्रतीक	घन
परमाण्विक भार	63.546
परमाणु संख्या	29
रंग/रूप	तांबा, धातु
ऊष्मीय चालकता	400 W/m.K
गलनांक (डिग्री)	1,083
ताप विस्तार प्रसार गुणांक	16.5 x 10-6/K

तांबा स्पटरिंग लक्ष्य और तैयारी विधि

तांबे को कई इलेक्ट्रोलिसिस और क्षेत्रीय गलाने के माध्यम से 99.95% से 99.99%, 99.999% और 99.9999% तक शुद्ध किया जाता है। चीन में उच्चतम शुद्धता लगभग 99.9999% (6N) है। कच्चे माल के रूप में उच्च शुद्धता वाले तांबे के सिल्लियों के साथ, कच्चे माल की फोर्जिंग, रोलिंग और गर्मी उपचार से तांबे के सिल्लियों में क्रिस्टल के दाने छोटे हो सकते हैं और स्पटरिंग के लिए तांबे के लक्ष्यों की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए घनत्व में वृद्धि हो सकती है। विरूपण उपचार के बाद उच्च शुद्धता वाले तांबे की सामग्री को यांत्रिक रूप से संसाधित किया जाता है। तांबे के लक्ष्य प्रसंस्करण के लिए उच्च परिशुद्धता और उच्च सतह की गुणवत्ता की आवश्यकता होती है, और इसे वैक्यूम कोटिंग मशीन द्वारा आवश्यक लक्ष्य आकार में संसाधित किया जा सकता है।