होल्मियम (Ho) स्पटरिंग लक्ष्य

होल्मियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता वाले होल्मियम (हो) धातु से बना एक सिल्वर मेटल लक्ष्य है। इसका गलनांक 1474 डिग्री, क्वथनांक 2695 डिग्री और घनत्व 8.79 ग्राम/सेमी3 है।

होल्मियम अपेक्षाकृत नरम और लचीला तत्व है जो मानक तापमान और दबाव पर शुष्क हवा में काफी संक्षारण प्रतिरोधी और स्थिर है। हालाँकि, नम हवा और उच्च तापमान पर, यह जल्दी से ऑक्सीकरण करता है, जिससे एक पीले रंग का ऑक्साइड बनता है। शुद्ध रूप में, होल्मियम में एक धात्विक, चमकदार चांदी जैसी चमक होती है।

सामान्य आवश्यकताएँ जैसे आकार, समतलता, शुद्धता, अशुद्धता सामग्री, घनत्व, N/O/C/S, अनाज का आकार और दोष नियंत्रण। विशेष आवश्यकताओं में सतह खुरदरापन, प्रतिरोध मूल्य, अनाज के आकार की एकरूपता, संरचना और ऊतक की एकरूपता, चुंबकीय चालकता, अति-उच्च घनत्व, अति-सूक्ष्म अनाज आदि शामिल हैं।

हाफ़नियम स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स और सूचना उद्योग, ग्लास कोटिंग क्षेत्र, पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोध, उच्च ग्रेड सजावटी सामान और अन्य उद्योगों में उपयोग किया जाता है।

Ho2O3 स्पटरिंग लक्ष्य

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