उत्पाद विवरण
स्पटरिंग लक्ष्य Ti33Al67 लक्ष्य
हम उच्च गुणवत्ता वाले स्पटरिंग लक्ष्य Ti33Al67 लक्ष्य स्पटरिंग लक्ष्य, सिरेमिक लक्ष्य, धातु लक्ष्य का उत्पादन करने में विशेषज्ञ हैं।
उत्पादों को विभिन्न तरीकों (मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग, वैक्यूम प्लेटिंग, आदि) द्वारा वैक्यूम कोटिंग के विभिन्न क्षेत्रों में लागू किया जाता है: वैज्ञानिक अनुसंधान, एयरोस्पेस, ऑटोमोटिव, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स, एकीकृत सर्किट उद्योग, प्रकाश स्रोत, प्रकाशिकी, सजावट, फ्लैट पैनल डिस्प्ले उद्योग, सूचना भंडारण उद्योग, डेटा भंडारण आदि।
टाइटेनियम एल्युमिनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य दो तरीकों से बनाया जा सकता है, HIP और पिघलने से। HIP द्वारा बनाया गया लक्ष्य उच्च घनत्व वाला होगा। पिघलने से बनाया गया लक्ष्य उच्च शुद्धता वाला होगा। यह सब आपके आवेदन पर आधारित है।
शुद्धता: अल-तिवारी 33/67% पर अल/तिवारी 50/50% पर, 99.95%, 99.5%
आकार: डिस्क, प्लेट, स्टेप (व्यास 300 मिमी, मोटाई 1 मिमी) आयत, शीट, स्टेप (लंबाई 1000 मिमी, चौड़ाई 300 मिमी, मोटाई 1 मिमी) ट्यूब (व्यास< 300mm, Thickness >2मिमी)
अनुप्रयोग: मुख्य रूप से उपकरण कोटिंग, गैर-संक्षारक वाल्व/रासायनिक संयंत्र, समुद्री उद्योग में उपयोग किया जाता है।
टाइटेनियम एल्युमिनियम स्पटरिंग लक्ष्य विवरण
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पवित्रता |
Al-Ti (35/67at%), Al/Ti (50:50% पर), AlTi 97/3wt%, AlTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt% |
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आकार |
डिस्क, प्लेट, स्टेप (व्यास 300 मिमी से कम या बराबर, मोटाई 1 मिमी से अधिक या बराबर) (लंबाई 1000 मिमी से कम या बराबर, चौड़ाई 300 मिमी से कम या बराबर, मोटाई 1 मिमी से अधिक या बराबर) |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001:2008 |
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विनिर्देश |
अनुरोध के अनुसार अनुकूलित |
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प्रक्रिया |
फोर्जिंग, रोलिंग, पीस |
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आवेदन |
1. इलेक्ट्रोप्लेटिंग; 2. रासायनिक इंजीनियरिंग और पेट्रोकेमिकल प्रौद्योगिकी; 3. चिकित्सा |
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घनत्व |
4.51 ग्राम/सेमी³ |
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