उत्पाद विवरण
हम उच्च गुणवत्ता वाले स्पटरिंग लक्ष्य Ti50Al50 स्पटरिंग लक्ष्य, सिरेमिक लक्ष्य, धातु लक्ष्य की आपूर्ति करते हैं।
स्पटरिंग टारगेट Ti50Al50 HIP तकनीक द्वारा उत्पादित किए जाते हैं, जिनका व्यापक रूप से टूल कोटिंग और सजावटी कोटिंग के लिए उपयोग किया जाता है। पिघलने वाली तकनीक की तुलना में, HIP तकनीक द्वारा उत्पादित TiAl टारगेट में अधिक समान माइक्रो-इनर संरचना, छोटे दाने का आकार होता है, और यह विभिन्न मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग मशीनों और आयन प्लेटिंग मशीनों के लिए उपयुक्त होता है। अंतिम उपयोगकर्ता PVD प्रक्रिया के दौरान निरंतर क्षरण दर के साथ-साथ उच्च शुद्धता और सजातीय पतली फिल्म कोटिंग प्राप्त कर सकता है।
TiAl पतली फिल्मों से लेपित औजारों में उच्च फीड गति, बेहतर काटने का प्रदर्शन, लंबी सेवा जीवन और उच्च धातु निष्कासन दर को बिना किसी कठिनाई के प्राप्त किया जा सकता है।
हमारे स्पटरिंग टारगेट Ti50Al50 उन्नत HIP प्रक्रिया और वैक्यूम हॉट प्रेसिंग प्रक्रिया द्वारा उत्पादित किए जाते हैं, जिसमें प्लानर टारगेट, सर्कुलर आर्क टारगेट, बेलनाकार टारगेट (मोनोलिथिक फॉर्मिंग विधि द्वारा निर्मित) आदि शामिल हैं। इसमें विस्तृत घटक अनुपात (Al घटकों के लिए 10at%-90at% से), उच्च शुद्धता और घनत्व, महीन और समान दाने और लंबी सेवा जीवन आदि की विशेषताएं हैं।
TiAl लक्ष्यों के लिए विशिष्ट घटक अनुपातों में 33:67at%, 50:50at% और 70:30at% आदि शामिल हैं।
उत्पाद पैरामीटर
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रासायनिक घटक (% पर) |
टीआई33एएल67 |
Ti50अल50 |
टीआई70एएल30 |
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शुद्धता (%) |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
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घनत्व (ग्राम/सेमी³) |
3.29 |
3.60 |
3.95 |
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दाने का आकार (μm) |
100 से कम या बराबर |
100 से कम या बराबर |
100 से कम या बराबर |
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ताप चालकता (W/mK) |
98 |
70 |
40 |
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ताप विस्तार (1/K) |
1.9*10-5 |
1.75*10-5 |
1.35*10-5 |
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विशिष्टता आयाम (मिमी) |
बेलनाकार लक्ष्य: |
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