उत्पाद विवरण
हमारे एल्यूमीनियम-क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य उन्नत गर्म आइसोस्टैटिक दबाने की प्रक्रिया को अपनाते हैं। उत्पादों में आयताकार लक्ष्य, चाप लक्ष्य और बड़े पहलू अनुपात अभिन्न रूप से गठित ट्यूब लक्ष्य आदि शामिल हैं, जिसमें संरचना अनुपात, उच्च शुद्धता और घनत्व की एक विस्तृत श्रृंखला है, छोटे और समान क्रिस्टल अनाज और लंबी सेवा जीवन के फायदे हैं। इसे ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार स्वतंत्र रूप से समायोजित किया जा सकता है, और वास्तविक घनत्व 99% के करीब है।
एल्यूमीनियम क्रोमियम लक्ष्य की उत्पादन प्रक्रिया निम्नलिखित है
कच्चा माल - पाउडर सम्मिश्रण - आवरण - मिश्र धातु पाउडरिंग - आवरण दबाव - गर्म आइसोस्टेटिक दबाव - मेटलोग्राफिक निरीक्षण - तार काटना - मशीनिंग - आयामी निरीक्षण - सफाई-पैकेजिंग
एल्युमिनियम-क्रोमियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य का मेटलोग्राफिक निरीक्षण
बार-बार फोर्जिंग, रोलिंग और हीट ट्रीटमेंट के माध्यम से, हम आपके इच्छित प्रभाव को प्राप्त करने के लिए लक्ष्य सामग्री की सूक्ष्म संरचना को उचित रूप से समायोजित कर सकते हैं। यदि स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का अनाज का आकार एक समान है, तो उपयोगकर्ता एक अच्छी स्पटरिंग दर और समान कोटिंग फ़्लोर प्राप्त कर सकता है। नीचे दी गई तस्वीर एल्यूमीनियम क्रोमियम (AlCr 70/30at%) स्पटरिंग लक्ष्य की एक सूक्ष्म धातु विज्ञान निरीक्षण तस्वीर है, जिसमें औसत कण आकार है<100μm.
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वस्तु |
धातु एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग लक्ष्य (AlCr लक्ष्य) AlCr30at% AlCr50at% AlCr40wt% आदि |
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सामग्री |
एल्युमिनियम धातु सामग्री |
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पवित्रता |
99.9%-99.95%, 3N,3N5 |
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आकार |
10x10x10mm,1-10mm, D3x3mm, 1 इंच, 2 इंच, 3 इंच, या अनुरोध के रूप में |
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रंग |
धातुई रंग |
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आकार |
छर्रे, दाने, प्लानर/गोल/प्लेट/रोटरी/बार, अनुरोध के अनुसार। |
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सतह |
पॉलिश सतह |
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Crघनत्व |
7.19 ग्राम/सेमी3 |
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Crगलनांक |
1890 डिग्री |
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आवेदन |
पीवीडी फिल्म कोटिंग, ऑप्टिकल पतली फिल्म कोटिंग, उद्योग उपयोग, प्रक्रिया, सेमीडोक्टर क्षेत्र, प्रयोग आदि |
उपलब्ध रचना
AlCr70/30at% स्पटरिंग लक्ष्य
AlCr50/50at% स्पटरिंग लक्ष्य
AlCr60/40at% स्पटरिंग लक्ष्य
AlCr30/70at% स्पटरिंग लक्ष्य
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