एल्युमिनियम कॉपर (AlCu) स्पटरिंग लक्ष्य

एल्युमिनियम कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य अपनी उच्च कठोरता, तन्य शक्ति और हल्के वजन के कारण कई उद्योगों और अनुप्रयोगों के लिए एकदम सही है। इसमें आमतौर पर 1-3% कॉपर सामग्री होती है और इसमें एल्युमिनियम के समान रासायनिक गुण होते हैं।

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उत्पाद विवरण

एल्युमिनियम कॉपर स्पटरिंग टारगेट अपनी उच्च कठोरता, तन्य शक्ति और हल्के वजन के कारण कई उद्योगों और अनुप्रयोगों के लिए एकदम सही है। इसमें आमतौर पर 1-3% कॉपर की मात्रा होती है और इसमें एल्युमिनियम के समान रासायनिक गुण होते हैं। AlCu में उच्च यांत्रिक गुण, उत्कृष्ट मशीनेबिलिटी और उच्च तापमान उपयुक्तता है, इसलिए यह उच्च प्रदर्शन वाले एल्युमिनियम मिश्र धातु के लिए उपयुक्त सामग्री हो सकती है। उच्च शुद्धता वाले AlCu मिश्र धातु स्पटरिंग टारगेट का उपयोग सेमीकंडक्टर और इलेक्ट्रॉनिक कार्यात्मक घटकों से लेकर औद्योगिक क्षेत्रों की एक विस्तृत श्रृंखला में किया जा सकता है। 5N उच्च शुद्धता, समान अनाज आकार, कम ऑक्सीजन सामग्री के साथ, अंतिम उपयोगकर्ता PVD प्रक्रिया के दौरान निरंतर क्षरण दर के साथ-साथ उच्च शुद्धता और सजातीय पतली फिल्म कोटिंग प्राप्त कर सकता है।

एकीकृत सर्किट के उत्पादन में, एल्यूमीनियम इंटरकनेक्ट परत में सिलिकॉन के प्रसार की घटना आम है। यदि एल्यूमीनियम में सिलिकॉन की संतृप्त सांद्रता को जोड़कर एल्यूमीनियम सिलिकॉन मिश्र धातु बनाई जाती है, तो समस्या को प्रभावी ढंग से सुधारा जा सकता है। इसलिए हम आईसी अनुप्रयोग के लिए एल्यूमीनियम सिलिकॉन AlSi स्पटरिंग लक्ष्य और एल्यूमीनियम सिलिकॉन कॉपर AlSiCu स्पटरिंग लक्ष्य भी बनाते हैं।

वर्ग	मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य
रासायनिक सूत्र	अलCu
संघटन	एल्युमिनियम तांबा
पवित्रता	99.9%,99.95%,99.99%
आकार	प्लेट्स, कॉलम टारगेट, आर्क कैथोड, कस्टम-मेड
उत्पादन प्रक्रिया	वैक्यूम मेल्टिंग, पी.एम.
उपलब्ध आकार	लंबाई 200 मिमी से कम या बराबर, चौड़ाई 200 मिमी से कम या बराबर

एल्युमिनियम कॉपर (AlCu) स्पटरिंग लक्ष्य

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