99.95%टाइटेनियम लक्ष्य
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99.95%टाइटेनियम लक्ष्यों का उपयोग विभिन्न भौतिक वाष्प जमाव और स्पटरिंग प्रक्रियाओं में धातु वाष्पीकरण और बयान के लिए किया जाता है। यह ऑप्टिकल कोटिंग्स, वैक्यूम कोटिंग्स, ऑप्टोइलेक्ट्रोनिक डिवाइस, उच्च तापमान प्रसंस्करण उपकरण, रासायनिक उत्प्रेरक और चिकित्सा उपकरणों में अच्छी तरह से उपयोग किया जा सकता है।
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99.95%टाइटेनियम लक्ष्य

 

टाइटेनियम मजबूत क्रूरता और उच्च शक्ति के साथ एक पैरामैग्नेटिक अपवर्तक धातु है, विशेष रूप से एक ऑक्सीजन मुक्त वातावरण में। लक्ष्यों के लिए, धातु की रासायनिक शुद्धता जितनी अधिक होगी, उससे बनाई गई फिल्म की चालकता उतनी ही बेहतर होगी।

99.95%टाइटेनियम लक्ष्य अक्सर पाउडर धातुकर्म तकनीक का उपयोग करके बनाए जाते हैं। इसमें उच्च शुद्धता, उच्च शक्ति और कठोरता, उच्च विशिष्ट शक्ति, संक्षारण प्रतिरोध, प्रभाव प्रतिरोध, अच्छा उच्च तापमान स्थिरता, पहनने के प्रतिरोध, स्थायित्व और उच्च कोटिंग गुणवत्ता जैसे उत्कृष्ट गुण हैं।

 

99.95%टाइटेनियम लक्ष्यों का उपयोग विभिन्न भौतिक वाष्प जमाव और स्पटरिंग प्रक्रियाओं में धातु वाष्पीकरण और बयान के लिए किया जाता है। यह ऑप्टिकल कोटिंग्स, वैक्यूम कोटिंग्स, ऑप्टोइलेक्ट्रोनिक डिवाइस, उच्च तापमान प्रसंस्करण उपकरण, रासायनिक उत्प्रेरक और चिकित्सा उपकरणों में अच्छी तरह से उपयोग किया जा सकता है। उदाहरण के लिए, सेमीकंडक्टर उद्योग में, टाइटेनियम लक्ष्य का उपयोग इलेक्ट्रॉनिक घटकों जैसे कि फोटोडायोड, ट्रांजिस्टर, रिसीवर या ट्रांसमीटर बनाने के लिए किया जा सकता है।

 

99.95%टाइटेनियम लक्ष्य की विशिष्टता

श्रेणी

ग्रेड 1, ग्रेड 2

तकनीक

सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग, रोलिंग, वैक्यूम पिघलना, मशीनिंग

पवित्रता

99.9%-99.995%

व्यास

स्वनिर्धारित

मोटाई

स्वनिर्धारित

बार के लिए आकार

Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 मिमी)

ट्यूब के लिए आकार

ट्यूब (रोटोरी लक्ष्य, ओडी: 20 मिमी -160 मिमी, मोटाई: 2-20 मिमी)

घनत्व

4.5g\/cm3

सतह

पॉलिश, उज्ज्वल, रासायनिक सफाई, काले ऑक्साइड, आदि।

आकार

डिस्क, प्लेट, आयताकार, वर्ग, स्तंभ लक्ष्य,

मानक

ASTM B385, GB, JIS

 

 

टाइटेनियम के लक्ष्यों की तस्वीर

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