हेफ़नियम ऑक्साइड (HfO2) कणिकाएँ

हेफ़नियम ऑक्साइड (HfO2) छर्रे मुख्य रूप से हेफ़नियम और ऑक्सीजन से बने ठोस पदार्थ हैं। इन छर्रों का इस्तेमाल आमतौर पर उनके असाधारण गुणों के कारण विभिन्न उच्च तकनीक अनुप्रयोगों में किया जाता है।

हेफ़नियम (IV) ऑक्साइड एक अकार्बनिक यौगिक है जिसका सूत्र HfO2 है।
हेफ़नियम डाइऑक्साइड या हाफ़निया के नाम से भी जाना जाने वाला यह रंगहीन ठोस पदार्थ हाफ़नियम के सबसे आम और स्थिर यौगिकों में से एक है। यह 5.3~5.7 eV के बैंड गैप वाला एक विद्युत इन्सुलेटर है। [हाफ़नियम डाइऑक्साइड कुछ प्रक्रियाओं में एक मध्यवर्ती है जो हाफ़नियम धातु देता है।

हेफ़नियम (IV) ऑक्साइड काफी निष्क्रिय है। यह सांद्र सल्फ्यूरिक एसिड जैसे मजबूत एसिड और मजबूत बेस के साथ प्रतिक्रिया करता है। यह एसिड में धीरे-धीरे घुलकर फ्लोरोहाफ़नेट आयन देता है। उच्च तापमान पर, यह ग्रेफाइट या कार्बन टेट्राक्लोराइड की उपस्थिति में क्लोरीन के साथ प्रतिक्रिया करके हेफ़नियम टेट्राक्लोराइड देता है।

इलेक्ट्रॉनिक्स: इसकी उच्च परावैद्युत स्थिरांक और तापीय स्थिरता के कारण अर्धचालक उपकरणों में उच्च-k परावैद्युत पदार्थ के रूप में उपयोग किया जाता है।

प्रकाशिकी: दृश्य और निकट-अवरक्त रेंज में इसकी पारदर्शिता और उच्च अपवर्तनांक के कारण इसका उपयोग ऑप्टिकल कोटिंग्स में किया जाता है।

परमाणु उद्योग: अपने उच्च न्यूट्रॉन अवशोषण क्रॉस-सेक्शन के कारण यह न्यूट्रॉन अवशोषक के रूप में कार्य करता है, जिससे यह परमाणु रिएक्टरों के लिए नियंत्रण छड़ों में उपयोगी होता है।

सिरेमिक: इसकी यांत्रिक शक्ति और तापीय स्थिरता के लिए उन्नत सिरेमिक में इसका उपयोग किया जाता है।

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