उत्पाद विवरण
हमारा कारखाना अर्धचालक, रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्रदर्शन और ऑप्टिकल अनुप्रयोगों में उपयोग के लिए उच्चतम संभव घनत्व और सबसे छोटे संभव औसत अनाज आकार के साथ उच्च शुद्धता वाले एल्यूमीनियम-डॉप्ड जिंक ऑक्साइड (एजेडओ) स्पटरिंग लक्ष्यों का उत्पादन करता है।
डिस्क, आयत, स्तंभ, स्टेप और कस्टम आकार जैसे विभिन्न आकारों के साथ जिंक ऑक्साइड/एल्यूमीनियम ऑक्साइड (AZO) स्पटरिंग टारगेट का उत्पादन करें। गोलाकार लक्ष्यों के लिए सामान्य व्यास में 1 इंच, 2 इंच, 3 इंच, 4 इंच या 50मिमी, 60मिमी, 80 मिमी, 100 मिमी आदि शामिल हैं। सामान्य मोटाई में 0.125 इंच और 0.25 इंच या 3 मिमी, 4 मिमी, 5 मिमी, 6 मिमी आदि शामिल हैं।
हमारे स्पटरिंग लक्ष्यों को आवश्यकतानुसार तांबे की बैकिंग प्लेट के साथ जोड़ा जा सकता है। जिंक ऑक्साइड/एल्यूमीनियम ऑक्साइड (AZO) स्पटरिंग लक्ष्यों के लिए अलग-अलग शुद्धता, आकार और आकार भी कस्टम-मेड किए जा सकते हैं।
कच्चे माल के चयन से लेकर गर्म प्रेस सिंटरिंग के तापमान, दबाव और समय के नियंत्रण तक, हम विशिष्ट उत्पादन प्रक्रिया का सख्ती से पालन करते हैं, इस प्रकार तैयार सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्यों में उच्च शुद्धता, उच्च घनत्व, धब्बे और दरार के बिना एक समान सतह का रंग की विशेषताएं होती हैं, अंतिम उपयोगकर्ता पीवीडी प्रक्रिया के दौरान निरंतर क्षरण दर और उच्च शुद्ध और सजातीय पतली फिल्में प्राप्त कर सकता है।
जिंक ऑक्साइड/एल्यूमीनियम ऑक्साइड (AZO) स्पटरिंग लक्ष्य
नियमित संरचना: ZnO/Al2O3=98/2wt%, 99/1wt%, आदि
शुद्धता: 99.99%;
उत्पादन विधि: गर्म प्रेस सिंटरिंग
उपलब्ध आयाम:
परिपत्र: व्यास=1", 2", 3" और 4", अन्य आकार अनुकूलित किया जा सकता है
आयताकार: लंबाई=3मिमी और 6मिमी
विनिर्देश
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सामग्री के प्रकार |
एल्युमिना डोप्ड जिंक ऑक्साइड |
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प्रतीक |
Al2O3/ZnO 2/98 wt% |
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रंग/रूप |
विभिन्न रूपों में ठोस |
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गलनांक (डिग्री) |
N/A |
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