मैग्नीशियम ऑक्साइड (MgO) स्पटरिंग लक्ष्य

स्पटरिंग लक्ष्यों में मैग्नीशियम ऑक्साइड मुख्य रूप से उच्च गति वाली फिल्म निर्माण, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स और फोटोवोल्टिक उद्योगों में अनुप्रयोग, विशिष्ट तैयारी प्रक्रियाओं और व्यापक कोटिंग अनुप्रयोगों में परिलक्षित होता है। ये अनुप्रयोग मैग्नीशियम ऑक्साइड के भौतिक और रासायनिक गुणों से लाभान्वित होते हैं।

स्पटरिंग लक्ष्यों में मैग्नीशियम ऑक्साइड (MgO) का अनुप्रयोग मुख्य रूप से निम्नलिखित पहलुओं में परिलक्षित होता है:

उच्च गति वाली फिल्म निर्माण: मैग्नीशियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य घटकों के रूप में MgO और प्रवाहकीय पदार्थों का उपयोग करते हैं। यह विशेष संरचना MgO फिल्म को DC स्पटरिंग द्वारा MgO के साथ बनाए जाने पर उन्मुख होने में सक्षम बनाती है, जिससे MgO फिल्म बनाते समय उच्च गति वाली फिल्म निर्माण प्राप्त होता है।

माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स और फोटोवोल्टिक उद्योगों में अनुप्रयोग: माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स और फोटोवोल्टिक उद्योगों के विकास के साथ, उच्च शुद्धता वाले मैग्नीशियम ऑक्साइड लक्ष्यों का व्यापक रूप से इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों और फोटोवोल्टिक कोटिंग्स में उपयोग किया गया है। इसकी उच्च शुद्धता अशुद्धियों के कारण होने वाले हस्तक्षेप को कम करती है और उत्पाद स्थिरता और सेवा जीवन में सुधार करती है।

तैयारी प्रक्रिया: उच्च प्रदर्शन ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्यों की तैयारी प्रक्रिया में, मैग्नीशियम ऑक्साइड आम स्पटरिंग लक्ष्यों में से एक है। ऑक्साइड घोल वैक्यूम बॉल मिलिंग, फिर घोल मोल्डिंग और सिंटरिंग प्रक्रिया के माध्यम से प्राप्त किया जाता है, उच्च घनत्व, बड़े आकार के मैग्नीशियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य प्राप्त किया जा सकता है।

कोटिंग अनुप्रयोग: मैग्नीशियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य की स्पटरिंग पतली फिल्म कोटिंग का व्यापक रूप से लिक्विड क्रिस्टल पैनल, टच स्क्रीन, पतली फिल्म सौर सेल और प्रकाश उत्सर्जक डायोड जैसे उद्योगों में उपयोग किया गया है। इन कोटिंग्स के अनुप्रयोग में मैग्नीशियम ऑक्साइड के उच्च गलनांक, उत्कृष्ट इन्सुलेशन, गर्मी प्रतिरोध, एंटीऑक्सीडेंट और संक्षारण गुणों से लाभ होता है।

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