मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

  • कोबाल्ट आयरन बोरॉन (CoFeB) स्पटरिंग लक्ष्य
    पतली फिल्म CoFeB के उद्भव ने पिछले दशकों में अनुसंधान और औद्योगिक अनुप्रयोगों को आगे बढ़ाया है, जिसमें चुंबकीय यादृच्छिक अभिगम मेमोरी (MRAM) सबसे प्रमुख उदाहरण है। अपने लाभकारी गुणों के कारण, यह...
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  • कोबाल्ट टैंटालम ज़िरकोनियम (CoTaZr) स्पटरिंग लक्ष्य
    कोबाल्ट टैंटलम ज़िरकोनियम स्पटरिंग टारगेट पिघलने वाली तकनीक द्वारा निर्मित होता है, इसे आमतौर पर चुंबकीय डेटा भंडारण क्षेत्र के लिए लागू किया जाता है। 3N5 शुद्धता, समान अनाज आकार, कम ऑक्सीजन...
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  • सेरियम गैडोलीनियम (CeGd) स्पटरिंग लक्ष्य
    सेरियम गैडोलीनियम मिश्र धातु स्पटरिंग टारगेट (CeGd) पतली फिल्म जमाव में एक महत्वपूर्ण सामग्री है। सेरियम और गैडोलीनियम को मिलाकर बनाया गया यह मिश्र धातु कोटिंग अनुप्रयोगों के लिए अद्वितीय गुण...
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